光刻胶
光刻胶（Photoresist），别称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。它是由感光树脂、增感剂和溶剂组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光查看详情>刻胶，可在表面上得到所需的图像。
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紫外线探测器在紫外光刻机中的应用
光刻机（Mask Aligner） 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序
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西人马采购光刻机等先进设备，传感器产能得以大幅提升
近期，西人马联合测控（泉州）科技有限公司成功打通热电堆红外传感器芯片和传感器产业化瓶颈，产能大幅提升，为全球疫情防控贡献科技力量。
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